opener

Technologie CVD - Dépôt chimique en phase vapeur

Couchages SiOx de production par procédé PECVD

Le choix de la flexibilité

La machine d'enduction sous vide à conception modulaire utilise un procédé de dépôt chimique amélioré au plasma pour appliquer du SiOx sur des films souples.

Contact

Chargement